「面板制程刻蝕篇」最全Dry Etch 分類、工藝基本原理及良率剖析
摘要:Dry Etch工序的目的 廣義而言,所謂的刻蝕技術,是將顯影后所產(chǎn)生的光阻圖案真實地轉(zhuǎn)印到光阻下的材質(zhì)上,形成由光刻技術定義的圖形。 它包含了將材質(zhì)整面均勻移除及圖案選擇性部分去除,可分為濕式刻蝕(wet etching)和干式刻蝕(dry etching)兩種技術。 濕式
閱讀:302372017年11月12日 14:24:00摘要:Dry Etch工序的目的 廣義而言,所謂的刻蝕技術,是將顯影后所產(chǎn)生的光阻圖案真實地轉(zhuǎn)印到光阻下的材質(zhì)上,形成由光刻技術定義的圖形。 它包含了將材質(zhì)整面均勻移除及圖案選擇性部分去除,可分為濕式刻蝕(wet etching)和干式刻蝕(dry etching)兩種技術。 濕式
閱讀:302372017年11月12日 14:24:00摘要:隨著全面屏的已成為手機標配的趨勢日益明顯,當屏幕越來越大,分辨率也越來越高,很多人在購買手機時,往往認為,分辨率越高,屏幕顯示效果越清晰。實際上,這種想法是不全面的。屏幕的材質(zhì)以及子像素的排列方式也是影響屏幕顯示效果的重要因素。屏幕子像素
閱讀:62062017年11月10日 09:12:15摘要:平面顯示器所使用的玻璃基板之材料,有主要成份為二氧化硅(SiO2)、氧化硼(B2O3)和氧化鋁(Al2O3)中含堿土類金屬氧化物RO,以及含堿金屬氧化物R2O等兩大類。 因平面顯示器的種類、應用領域和驅(qū)動方式不同,而使用不同尺寸的玻璃基板材料,分格式或格子式(Segme
閱讀:65602017年11月07日 09:06:09摘要:在Array段的制程通常會分為鍍膜,曝光和蝕刻三道大的工序。而蝕刻工序根據(jù)工藝和設備的不同又可以分為 干蝕刻 和 濕蝕刻 ,即Dry工序和WET工序。 WET工序 作為蝕刻工序的一種實現(xiàn)方式,WET工序詳細來講可以包括清洗,濕蝕刻和脫膜。 1、清洗 包括初清洗和成
閱讀:52212017年11月01日 15:14:15摘要:半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展帶動應用終端的體驗升級,除了相關元組件的技術升級以外,面板也是大多數(shù)應用終端必不可少的部件,因此面板的技術規(guī)格演進和供需狀況也受到了大多數(shù)應用終端廠商的高度關注。集邦科技旗下 WitsView 研究副總邱宇彬認為,中國的面板產(chǎn)業(yè)將持
閱讀:33782017年11月01日 11:08:47摘要:光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎組分組成,又被稱為光致抗蝕劑,這是一種對光非常敏感的化合物。此外,光刻膠中還會添加光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等成分來達到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后,它在顯影液中的溶解度會發(fā)生變
閱讀:98502017年10月31日 08:28:50摘要:OLED顯示器對氧和水非常敏感,更好的阻隔效果是下一代柔性技術的主要挑戰(zhàn)之一。 第一代OLED顯示器使用玻璃作為阻擋層,但因為較差的柔韌性不能用于柔性OLED。目前柔性屏使用的都是薄膜封裝,由SiOx和PI層交替構(gòu)成,水氧的阻隔效果尚可,但柔性顯示屏再向前發(fā)
閱讀:33732017年10月30日 09:34:23摘要:在顯示行業(yè),目前最火的當屬OLED與LCD顯示技術之爭,由于OLED在性能的諸多優(yōu)勢,其被認為是顯示屏的次世代技術。 OLED在性能上的優(yōu)勢表現(xiàn) 色域更高,顏色更鮮艷; 視角更好,大視角無明顯色偏; 響應時間更快,觀看動態(tài)畫面無拖尾現(xiàn)象; 自發(fā)光,暗態(tài)更暗,無
閱讀:53132017年10月25日 08:29:22摘要:標準項目組根據(jù)響應速度快,溫度特性好, 功耗低,高亮度及對比度、寬視角及可實現(xiàn)柔軟顯示等特點, 制定出了一些能更好地評價OLED顯示性能的測試方法。 OLED顯示屏檢測方法與LCD顯示屏的檢測方法存在一些異同。 亮度測試方法 由于OLED是自發(fā)光顯示器件, 在
閱讀:63032017年10月23日 10:25:36摘要:隨著柔性OLED顯示技術的突破,全面屏顯示觸控技術也成為了可量產(chǎn)的現(xiàn)實。全面屏技術這個新的市場需求也再次給顯示與觸摸行業(yè)出了個新的技術路線選擇難題。不過,三星在固定曲率柔性OLED顯示屏上,仍然選擇了傳統(tǒng)ITO材料時,行業(yè)對于ITO FILM觸摸屏的生產(chǎn)技術
閱讀:46522017年10月20日 09:40:08關注我們
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